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Runway

Runway Gen-4 References に Layout Sketch を追加

Publish Date on 05/31/2025

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Runway は5月29日(木)、Gen-4 References に新しく Layout Sketch 機能を追加したことを発表した。

runway-gen-4-references-layout-sketch-cov

Categories : Runway | NEWS

Runwayは、Gen-4 References 画像生成に Layout Sketch 機能を追加した。

References 機能利用時に、参照する画像の構成やスケッチの作成を外部アプリなしで Runway 内で完結できるようになった。

Introducing Layout Sketch for Gen-4 References.

Start from a blank canvas or draw on top of an existing image to add new elements and compositions.

Available now for all plans. pic.twitter.com/ZcpULvre4U
— Runway (@runwayml) May 29, 2025

画像生成の画面に表示される sketch a scene または、ペンのアイコンをクリックすることで Layout Sketch 画面が現れる。

runwya-gen-4-references-layout-sketch-1-Screenshot202505

ブラシツールによるフリーハンドのスケッチや、四角, 三角, 丸などの基本形状の利用が可能。

必要最低限の機能に絞られた非常にシンプルなツールとなっている。

runway-gen-4-references-layout-sketch-Screenshot202505-1

こちらが Layout Sketch の操作画面だ。

バウンディングボックスを使って画像構成を参照させる場合には、タグでそのオブジェクトを単語で指定すると良い。

Gen4 IMG_1 woman sitting by left side of modern minimal dining table with banana and flower 38105461

構成を参照して生成したのが上の画像だ。

わざわざ他のペイントツールなどを開いて出力, 取り込む手間が省略されるので、気軽に利用できそうだ。

また、画像生成時に選択できる画像の最大解像度が 720p から 1080p に上がった。

どちらも消費するクレジット数は同じなので 1080p を選択することをおすすめする。

リリース時点では、モバイルアプリ版では Layout Sketch は未対応となっている。

Layout Sketch 機能はどのプランでも利用可能だ。

詳細情報

Runway Gen-4では、シーンをまたいで一貫性のあるキャラクター、ロケーション, オブジェクトなどを正確に生成できるのが大きな特徴だ。

Runway Gen-4 について詳しくは公式サイトにて確認されたい。

Runway 公式サイトはこちら

https://runwayml.com

Last Updated on 05/31/2025

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