Runwayは、Gen-4 References 画像生成に Layout Sketch 機能を追加した。
References 機能利用時に、参照する画像の構成やスケッチの作成を外部アプリなしで Runway 内で完結できるようになった。
Introducing Layout Sketch for Gen-4 References.
— Runway (@runwayml) May 29, 2025
Start from a blank canvas or draw on top of an existing image to add new elements and compositions.
Available now for all plans. pic.twitter.com/ZcpULvre4U
画像生成の画面に表示される sketch a scene または、ペンのアイコンをクリックすることで Layout Sketch 画面が現れる。

ブラシツールによるフリーハンドのスケッチや、四角, 三角, 丸などの基本形状の利用が可能。
必要最低限の機能に絞られた非常にシンプルなツールとなっている。

こちらが Layout Sketch の操作画面だ。
バウンディングボックスを使って画像構成を参照させる場合には、タグでそのオブジェクトを単語で指定すると良い。

構成を参照して生成したのが上の画像だ。
わざわざ他のペイントツールなどを開いて出力, 取り込む手間が省略されるので、気軽に利用できそうだ。
また、画像生成時に選択できる画像の最大解像度が 720p から 1080p に上がった。
どちらも消費するクレジット数は同じなので 1080p を選択することをおすすめする。
リリース時点では、モバイルアプリ版では Layout Sketch は未対応となっている。
Layout Sketch 機能はどのプランでも利用可能だ。
詳細情報
Runway Gen-4では、シーンをまたいで一貫性のあるキャラクター、ロケーション, オブジェクトなどを正確に生成できるのが大きな特徴だ。
Runway Gen-4 について詳しくは公式サイトにて確認されたい。

Runway 公式サイトはこちら
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