Runway Gen-4 References に Layout Sketch を追加

Runway は5月29日(木)、Gen-4 References に新しく Layout Sketch 機能を追加したことを発表した。

Runwayは、Gen-4 References 画像生成に Layout Sketch 機能を追加した。

References 機能利用時に、参照する画像の構成やスケッチの作成を外部アプリなしで Runway 内で完結できるようになった。

画像生成の画面に表示される sketch a scene または、ペンのアイコンをクリックすることで Layout Sketch 画面が現れる。

ブラシツールによるフリーハンドのスケッチや、四角, 三角, 丸などの基本形状の利用が可能。

必要最低限の機能に絞られた非常にシンプルなツールとなっている。

こちらが Layout Sketch の操作画面だ。

バウンディングボックスを使って画像構成を参照させる場合には、タグでそのオブジェクトを単語で指定すると良い。

構成を参照して生成したのが上の画像だ。

わざわざ他のペイントツールなどを開いて出力, 取り込む手間が省略されるので、気軽に利用できそうだ。

また、画像生成時に選択できる画像の最大解像度が 720p から 1080p に上がった。

どちらも消費するクレジット数は同じなので 1080p を選択することをおすすめする。

リリース時点では、モバイルアプリ版では Layout Sketch は未対応となっている。

Layout Sketch 機能はどのプランでも利用可能だ。

Runway Gen-4では、シーンをまたいで一貫性のあるキャラクター、ロケーション, オブジェクトなどを正確に生成できるのが大きな特徴だ。

Runway Gen-4 について詳しくは公式サイトにて確認されたい。

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